特定形貌的微小设计者被认为是以高效率方式影响细胞会行为的助于分析方法，特别是加强头骨再生中所的成头骨能力。在本研究中所，我们研发了粗糙片壁厚度为40 nm和70 nm的薄膜层钽（Ta）微小。与未结构化的块Ta相比，下端在薄膜层Ta微小上的细胞会表现出更好的蛋白质薄膜和β1整联蛋白的隐含，这将促使初始细胞会下端和扩散。因此，如预期的那样，在薄膜层Ta微小上观察到相当大增强的成头骨细胞会毛细，生长和水溶性磷酸酶活性。然而，随着粗糙片壁厚度的增加，薄膜层结构对成头骨的增强抑制作用减弱。使用原子力全像通过毛细力检查细胞会和Ta微小两者之间的相互抑制作用。结果表明，粗糙片壁厚为40 nm的Ta微小很强最高的成头骨抑制作用。在细胞会下端的尖端和很强40nm厚的粗糙片壁的Ta微小两者之间观察到的最强毛细力促使细胞会与微小的强力结合，因此细胞会下端和伸展较差。我们将此归因于很强较粗糙薄膜级Ta微小的细胞会的可用认识km的增加。增加的认识km意味着增强细胞会微小相互抑制作用其中心，从而加强成头骨细胞会毛细。总之，该研究表明，粗糙薄膜层形貌在加强牙科和整形外科植入物的针灸性能指标方面显示出巨大的前瞻性。原始中所有：An R, Fan P, et al., Nanolamellar Tantalum Interfaces in the Osteoblast Adhesion. Langmuir. 2019 Jan 23. doi: 10.1021/acs.langmuir.8b02796.
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